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微光学和纳米光学制造技术.pdf

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国际信息工程先进技术译丛 微光学和纳米 光学制造技术 (美)ShanalynA.Kemme 编著 周海宪 程云芳 译 周华君 程 林 校 机械工业出版社 本书详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重 点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍 射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟 光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件 应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造———钨 成型法。 本书参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光 学加工的领先水平。本书可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和 光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师 使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 版权声明 Microopticsandnanoopticsfabrication/Editor,ShanalynKemme/ISBN: 978-0849336768 Copyright©2010byTaylorandFrancisGroup.LLC AuthorizedtranslationfromEnglishlanguageeditionpublishedbyCRC Press,partofTaylor&FrancisGroupLLC;Allrightsreserved. ChinaMachinePressisauthorizedtopublishanddistributeexclusivelythe Chinese(SimplifiedCharacters)languageedition.Nopartofthepublication maybereproducedordistributedbyanymeans,orstoredindatabaseorretrieval system,withoutthepriorwrittenpermissionofthepublisher. CopiesofthisbooksoldwithoutaTaylor&Francisstickeronthecoverare unauthorizedandillegal.本书封面贴有Taylor&Francis公司防伪标签,无 标签者不得销售。 本书中文简体翻译版授权由机械工业出版社独家出版,未经出版者书 面许可,不得以任何方式复制或发行本书的任何部分。 本书版权登记号:图字01-2011-3028号。 译 者 序 当前,高速发展的信息工业对集成电路器件的集成度要求越来越高,促使人们 不断探索突破器件尺寸极限的途径。纳米尺度的光学现象日益受到人们关注,而光 子作为信息载体,有着电子无法比拟的优势,如高带宽、高密度、高速度和低耗散 等。另外,光信号传输速度比电子快1000倍,并且可以携带强度、偏振、相位和 频率等信息,进而突破二进制的限制。随着对微纳米光电系统的深入研究,光电子 技术正在向光电子集成和纳米光电子集成方向发展。光学、光电子学、纳米光学与 纳米电子学相结合,产生了一门新的学科———微纳
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