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《应用光学(第4版)》.pdf

电子工业出版社 PDF   622页   下载0   2025-02-19   浏览4   收藏0   点赞0   评分-   1024574字   10积分
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光电信息科学与工程类专业规划教材 应 用 光 学 (第4版) 张以谟 主编 张红霞 贾大功 修订 内 容 简 介 本书将基础性光学原理用于光学系统设计和像差平衡, 定位于阐述光学设备的光学系统总体设计原理与光学镜头设 计基础。本书分为几何光学、像差理论、典型光学系统和光学系统设计四部分,各部分均反映了光学与光电子学的进展 和光学系统设计的新发展。其中,几何光学和像差理论详细讲述了光学系统设计基本理论;典型光学系统包括眼睛,显 微和望远光学系统,摄影和投影光学系统,自由曲面及其在光学系统中的应用,以及特殊光学系统,包含了当前最新的 光学系统,例如全息术补偿像差、 3D打印光学系统、 3D显示光学系统、太赫兹光学系统、折衍混合光学系统、共形自 由曲面光学系统、复眼仿生光学系统和自适应光学系统等;光学设计部分包括光学系统初始结构求解、像质评价和像差 平衡,并辅以光学设计实例。 本书可作为高等学校光电类相关专业的教材或教学参考书,也可供从事光学设计和光学仪器设计工作的科技 人员参考。 未经许可,不得以任何方式复制或抄袭本书之部分或全部内容。 版权所有,侵权必究。 图书在版编目( CIP)数据 应用光学 / 张以谟主编;张红霞,贾大功修订 . —4版. —北京:电子工业出版社, 2015.4 光电信息科学与工程类专业规划教材 ISBN 978-7-121-25146-7 Ⅰ. ①应… Ⅱ. ①张… ②张… ③贾… Ⅲ. ①应用光学―高等学校―教材 Ⅳ. ①O439 中国版本图书馆 CIP数据核字( 2014)第295504号 责任编辑:韩同平 特约编辑:李佩乾 印 刷:杨 波 装 订: 出版发行:电子工业出版社 北京市海淀区万寿路 173信箱 邮编:100036 开 本:787×1092 1/16 印张:38.75 字数:1450千字 版 次:1982年2月第1版 版 次: 2015年4月第4版 印 次:2015年4月第1次印刷 定 价:75.00元 凡所购买电子工业出版社图书有缺损问题,请向购买书店调换。若书店售缺,请与本社发行部联系,联系及邮购电 话:(010)88254888。 质量投诉请发邮件至 zlts@phei.com.cn,盗版侵权举报请发邮件至 dbqq@phei.com.cn。 服务热线:(010)88258888。 前 言 本书编写目的是培养光学仪器或光学工程有关专业人才,在光学仪器设计、光学系 统设计和光学镜头 设计方面的技术基础知识和能力,是一本技术基础教材和科技参考书。 本书第1版于1982年出版;第 2版于1987年出版。 在随后中断的近 20年
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